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      氟化鎂膜料介紹

      2020-08-21

      氟化鎂為最常用的氟化物,其在基板加熱到250℃以上后薄膜變硬,耐磨,氟化鎂薄膜的透明區為0.21μm~10μm,氟化鎂厚膜透明區限于2μm以下。其折射率為1.32~1.39,在550nm處為1.38,長波折射率值稍有降低,在波長2μm處為1.35,很適合做單層抗反射膜,也適合與其它材料搭配做為低折射率材料來鍍制多層膜濾光片。

       

      氟化鎂薄膜是所有低折射率材料中最為牢固的薄膜,特別是當基底溫度為250℃左右時,其膜層牢固度可以得到非常令人滿意的結果。室溫基底上淀積的氟化鎂薄膜是多孔的,在真空中測量的折射率為1.32~1.33,其填充密度與基底的溫度有關,在基底溫度為30℃時填充密度為0.72,而在300℃時為0.96。所制備的氟化鎂薄膜暴露于空氣后,在1~2小時之內薄膜的厚度可增加3~4nm,其折射率上升到1.37,這是因為薄膜的孔隙被折射率為1.33的水汽填充所致。在270℃~340℃基底上所制備的氟化鎂薄膜的折射率接近大塊材料的折射率值,其填充密度值接近于1。氟化鎂薄膜的結構通常呈現結晶狀態,較薄的膜或冷基底上制備的膜,要比厚膜或熱基底上的膜的晶粒細得多。氟化鎂薄膜具有在蒸汽入射角方向擇優生長的趨勢,并且在其膜厚大于100nm時形成非均勻薄膜。氟化鎂薄膜具有很高的張應力,而且其應力隨膜厚的增加而增加,在薄膜厚度達100nm左右時,其張應力值約為3000~5000kg/cm2。由于氟化鎂薄膜的低折射率和高的機械強度,使其在減反射膜中占有特別重要的位置,但由于其本身高的張應力,所以單層氟化鎂薄膜的厚度不能超過2μm,否則在真空中就會產生薄膜破裂的現象。

       

      鍍制氟化鎂可用鉭舟或電子槍蒸鍍,其略熔化后即會蒸發,蒸鍍時偶爾會噴濺,原因是材料部分(特別是表面或靠近周邊與外界接觸部分)氧化變成了氧化鎂,氧化鎂熔點比氟化鎂高,氟化鎂蒸發時會把氧化鎂噴出。解決方法有保持坩堝干凈,高溫時不要充氧或空氣,氟化鎂材料純度要高,顆粒不要太小,若鍍膜后材料邊緣有白霧要刮掉。


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